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半导体辅助工艺 > 光刻胶-导电胶
 
Lifft off光刻胶
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Lifft off光刻胶 : RN-218系列, RN-246系列,ma-N 400 系列/1400 系列,AZ nLOF 2000系列, LOR/PGMI, LOL 2000

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产品详情

lift off光刻胶

详细介绍:

Liftft off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35-7

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺

 

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