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半导体辅助工艺 > 光刻胶-导电胶
 
紫外光刻胶-薄胶
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紫外光刻胶-薄胶,S 1800 系列,AZ5214, BCI-3511, SPR 955, AZ1500

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产品详情

紫外光刻胶-薄胶

详细介绍:

 

 

光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺

紫外光刻胶-薄胶

S1800系列

g-Line,
           broad line

0.5-3.5

0.5um

正性光刻胶,稳定性好;适用于分辨率要求较高的光刻工艺

AZ5214

g/h/i-Line

1-2um

0.5um

反转胶

BCI-3511

i-Line

0.5-2

0.5um

正性i线光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper

SPR 955

i-Line

0.5-3.5

0.35um

正性i线光刻胶,适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀

AZ 1500

g/h/i-Line

0.5-5

1um

正性光刻胶,广泛应用于半导体制造

 

 

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