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镀膜沉积系统 > Picosun芬兰 原子层沉积机
 
R-200高级型 原子层沉积机
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芬兰PICOSUN 高级型原子沉积机 R-200 ALD

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产品详情

芬兰PICOSUN 高级型原子沉积机 R-200 ALD

 
技术参数
 
衬底尺寸和类型 ：
 。50-200 mm /单片
 。156 mm x 156 mm太阳能硅片
 。3D复杂表面衬底
 。粉末与颗粒
 。Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm
 。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
 
工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度
 
基片传送选件：
 。气动升降（手动装载）
 。预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
 。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 
前驱体 ：
 。液态、固态、气态、臭氧源、等离子体（最多4路气体）
 。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
 
重量 ：350 + 200 kg
 
尺寸 ：(W x H x D) 取决于选件
 
最小 ：146 cm x 146 cm x 84 cm
 
最大 ：189 cm x 206 cm x 111 cm
 
选件 ：集群工具，PICOFLOW™ 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，超高真空兼容，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）
 
验收标准 ：标准设备验收标准为 Al2O3工艺
 
   
 
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