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镀膜沉积机 > 芬兰Picosun原子层沉积机
 
芬兰 PICOSUN R-200 标准型原子层沉积机ALD
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芬兰 PICOSUN™ R-200标准型原子层沉积机ALD

PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。 在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。
    
 

 

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产品详情

芬兰 PICOSUN™ R-200标准型原子层沉积机ALD

技术参数

。衬底尺寸和类型 50-200 mm /单片
。156 mm x 156 mm太阳能硅片
。3D 复杂表面衬底
。粉末与颗粒
。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品
。工艺温度 :50 - 500 °C , 可选更高温度
。基片传送选件 :气动升降(手动装载) ,预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )
。前驱体 液态、固态、气态、臭氧源 ,4根独立源管线,最多加载6个前驱体源
。重量 :350 kg
。尺寸: (W x H x D) 取决于选件
-最小146 cm x 146 cm x 84 cm
-最大189 cm x 206 cm x 111 cm
。选件 :PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2 发生器,尾气处理器,定制设 计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)
。验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3工艺


  


PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。 在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。


    
 

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