PICOSUN  生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD

技术参数

衬底尺寸和类型：

  。50 – 200 mm /单片
  。156 mm x 156 mm 太阳能硅片
  。150 mm x 150 mm 显示面板
 

工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件 ：

  。气动升降（手动装载）
  。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
  。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 

标准： SEMI S2 认证（认证中）
 

前驱体：

  。 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（最多4路气体）：
  。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
  。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
 

重量 ：790 kg
 

尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
 

可选件 ：集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准 ：。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
        。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
         - 不均匀性
         - 颗粒物含量
         - 重金属污染
         - 电学性能

一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA™。