Syskey 超高真空热蒸发镀膜机(UHV Thermal)

特高压环境的特点是压力低于 Torr，这非常对科学研究很重要，因为实验通常要求表面保持无污染状态。我们在制造特高压方面很成熟适用于各种应用的热蒸发系统。

配置和优点：

• 灵活的基板尺寸可达 8 英寸
• 基板支架加热至 800 °C
• 优异的薄膜均匀性小于 ±3%
• 船和电池源（数量最多 6 个）• 可以共蒸发和掺杂。• 用选定的目标材料沉积多层薄膜
• 可与其他沉积系统集成