Syskey 高真空电子束镀膜系统 （HV E-beam)

高真空电子束蒸发系统可提供 Torr的真空环境用于常见的薄膜沉积，包括金属、半导体、氧化物、氮化物。全自动系统可以满足各种应用需求，包括MEMS、IC、射频滤波器、功率器件、光伏、光学等。

配置和优势：

• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸
• 基板支架加热至 800 °C 或水/油/LN2 冷却
• 优异的薄膜均匀性小于 ±3%
• 4/6/8 个口袋电子束源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kW 电源可支持大部分材料蒸发
• 用选定的目标材料沉积多层薄膜
• 可与其他沉积技术或沉积系统集成