Syskey 高真空热蒸发镀膜机（HV Thermal)

高真空热蒸发系统可提供的真空环境或 Torr 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。配置和优势：• 灵活的基板尺寸可达 370 x 470 毫米

配置和优势：

• 基板支架水冷或油冷
• 优异的薄膜均匀性小于 ±3%
• 船和电池源（数量最多 12 个）• 可以共蒸发和掺杂
• 用选定的目标材料沉积多层薄膜
- 可与手套箱集成