德国Raith Velion 电子束光刻机

FIB‑SEM纳米图案化突破极限

VELION – Multi-ion species FIB on a true lithography platform Main Applications 

VELION®专注于FIB技术的完美应用。这种独特的、多离子种类的FIB纳米加工系统结合了垂直安装的FIB柱和 unparalleled 激光干涉平台，提供了许多卓越的优势。

VELION的可配置多离子种类FIB技术能够根据您的应用挑战定制各种纳米结构。只需从通用离子源中选择和切换各种离子种类。这种方法为无限的过程路径铺平了道路。尖端的FIB柱提供完美的束流特性，以及市场上前所未有的最长的灯丝寿命。

该系统基于其光刻架构，便于在大型区域上进行稳定直接图案化最小特征。

前所未有的超大面积FIB图案化和无限完美的写入场拼接现在首次变得可行。由于 VELION 利用全面的自动化进行可靠的不间断纳米加工，数天无需人工干预，该仪器是您实验室中机器驱动纳米加工的理想伴侣。