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镀膜沉积系统 > Cressington英 离子溅射仪/US Ted Pell
 
108C镀碳仪
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108C 镀碳仪是用于扫描电镜能谱分析的最先进的镀碳仪之一。独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚大约 20nm 左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状。

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产品详情
108C 镀碳仪
108C 是用于扫描电镜能谱分析的最先进的镀碳仪之一。
 
 
主要特性
。 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚大约 20nm 左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状。
。108C 中使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。该镀膜系统结构紧凑，容易操作，抽真空周期短。选件 MTM-10 高分辨膜厚监控仪可以精确地得到所需的碳膜厚度。
。 使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制。该蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低，碳棒具有优异的重新蒸镀特性。蒸发源可以通过脉冲或连续的方式操作。
。 可选择手动或自动方式操作。
。自动模式下，蒸发源按程序设定的电压和时间进行喷镀。手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续的方式操作，并通过旋钮控制输出电压。
。 可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪（选件）。分辨率优于 0.1nm。在 15nm 至 25nm 的碳膜厚度范围内，重现性可优于 5％
 
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