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光刻机/微纳加工 > EVG 紫外光刻机/键合机/纳米压印机
 
EVG 620 紫外纳米压印机
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奥地利EVG紫外纳米压印EVG620, 适用于紫外纳米压印和微接触印刷;。 紫外光曝光;。 配备专用的紫外纳米压印工具;。 适于软或硬印章压印;。 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体;

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产品详情

奥地利EVG紫外纳米压印EVG620

 

一、设备原理:

EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。

 

 

二、应用范围

纳米压印技术主要应用于如下方面:

LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。

 

三、主要特点及技术参数:

1、主要特点:

。 适用于紫外纳米压印和微接触印刷;

。 紫外光曝光;

。 配备专用的紫外纳米压印工具;

。 适于软或硬印章压印;

。 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体;

 

2、技术参数

  • 衬底尺寸:

10 mm x 10 mm,2",3",100mm,150mm;厚度:0.1 - 10mm

  • 印章参数:

25 mm x 25 mm,最大 150 mm;厚度: <7mm

  • 系统配置:

标准桌面系统,可选系统导轨,被动式振动隔离

  • 对准精度:

上部对准:± 1.0µm 3σ;通过使用专用的摩尔纹对准键,可实现± 100nm。大间隙对准可选:± 1.5µm 3σ

  • 对准台:

精密微米计:手动,电动可选; 契型补偿:内部0.5-40N接触压力

  • 曝光:

模式:软或真空接触;分辨率:< 50 nm, 主要与印章的关键尺寸有关;

波长:200 - 240 nm / 240 - 280 nm / 280 - 350 nm / 350 - 450 nm, 滤镜可选;

汞弧灯:350 / 500 / 1000 W。

  • 自动对准:可选;
  • 处理系统:3料盒台,5料盒台(可选),现场可升级
  •  SECS/GEM II: 可选。

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