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镀膜沉积系统 > 德Eberl MBE分子束外延系统
 
OCTOPLUS 400德国Eberl MBE-Komponent分子束外延系统
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德国Eberl MBE-Komponent分子束外延系统OCTOPLUS 400,非常适合于III/V族, II/VI族,及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计,可以装配各种源炉,实现不同材料分子束外延生长。

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产品详情

德国Eberl MBE-Komponent分子束外延系统OCTOPLUS 400

 

OCTOPLUS 400分子束外延是一款通用型MBE系统,非常适合于III/V族, II/VI族,及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计,可以装配各种源炉,实现不同材料分子束外延生长。

 

 

系统特点:

● 用于研发的普适性MBE系统

● 应用于III/V族, II/VI族材料外延生长

● 适用于2-4英寸样品

● 8个标准的CF法兰孔(根据要求可以拓展到10个)

● 可以升级和选配实现系统扩展

● 原位生长表征

● 易于使用和方便维护

 

可以根据所有客户的要求,提供不同种类的蒸发源,包括K-cell电子束蒸发源热裂解源阀式裂解源气体裂解源等。可以使用石英晶振,反射式高能电子衍射仪(RHEED)或者四极杆质谱仪实现样品生长的原位监测。 EpiSoft MBE软件可以精确控制所有的挡板,蒸发源源和样品台加热器温度。最大程度确保了操作的重复性。

Octoplus 400的主要特点是极高的可靠性和普适性,以及其占地空间小。这些特点使得我们的系统非常适合于研发。

标准的Octoplus 400有8个4.5’’(CF63)法兰口,可以根据需求拓展到10个法兰口。快速进样室(Loading Chamber)配有高精度磁力传输样品杆,可以在不破坏MBE腔室真空的前提下进行快速样品传输。

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