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镀膜沉积系统 > 德Eberl MBE分子束外延系统
 
OCTOPLUS 500 德国Eberl MBE-Komponent 分子束外延系统
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OCTOPLUS 500 MBE系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的III/V族或者II-VI族异质结构材料而研发专业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的OCTOPLUS 500有11个呈放射状分布的源孔,可以根据需要增选3个源孔。

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产品详情

德国Eberl MBE-Komponent 分子束外延 OCTOPLUS 500 系统

 

OCTOPLUS 500 系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的III/V族或者II-VI族异质结构材料而研发的。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。OCTOPLUS 500 MBE系统是公认的非常适合于III/V族, II/VI族或其他异质结构材料生长应用研发与生产。

OCTOPLUS 500 MBE系统的主要特点是极高的可靠性和普适性。标准的Octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔,可以根据需要增选3个源孔。快速抽真空进样室配有水平磁力杆传输系统,可以在不破坏MBE腔室真空的前提下,简便地进行样品传输。

 

OCTOPLUS 500 MBE系统的的主要参数规格:

● ID 550 mm

● 应用于III/V族, II/VI族或其他异质结构材料

● 最大6英寸晶片,或7x2英寸晶片

● 进样室和缓冲腔室

● 线性样品传输系统

● 标准法兰孔数目(标准11个,可按要求增加3个)

● 束流源,气体源,样品台

● 抽真空系统(离子吸附泵,分子泵,低温泵等)

● 原位表征能力

● 软件/硬件控制系统

● 额外要求可定制

 

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