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光刻机/微纳加工 > Elionix 日本伊领科思电子束光刻机
 
ELS-F150超高精密电子束光刻系统
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日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150, 是世界上第一个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米级用于高级研究的设备制造。

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产品详情

日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150

ELS-F150 Ultra High Precision Electron Beam Lithography System

 

 

World's highest acceleration voltage electron beam

 

lithography system

     世界上加速电压最高的电子束光刻系统

 

The ELS-F150 is the world's first 150 kV electron  beam lithography system. Expanding upon the ELSF125 base system, the ELS-F150 enables single digit  nanoscale device fabrication for advanced research.

      ELS-F150是世界上第一个150千伏电子束光刻系统。在ELS-F125基础上展开系统,ELS-F150支持单位纳米级用于高级研究的设备制造。

 

Main Applications:

主要应用领域

Quantum dots for quantum computing

-量子点用于量子计算

Resolution and edge roughness testing for EUV resist

 

Evaluation

EUV抗蚀剂的分辨率和边缘粗糙度测试评估

 

< 10 nm master fabrication and material evaluation for

 

nanoimprint lithography

< 10nm母版制作和材料评估纳米压印光刻

 

T-gate pattern on thick resist for HEMT devices

- HEMT器件厚抗蚀胶上的T-型栅极图案

 

Nano gap patterning for bionano sensors

- 用于生物传感器的纳米间隙模式

 

Fresnel Zone Plate (FZP) for X-ray gratings

- x射线光栅的菲涅耳带板(FZP)

 

Key Product Features 

关键产品特性

 

- 4 nm linewidth guaranteed at 150 kV

- 4纳米线宽保证在150千伏

- 1.5 nm beam diameter and minimum proximity effect at 150 kV

- -1.5纳米束直径和最小接近效应在150千伏

- Wider process margin than 125 kV makes it easier to fabricate advanced nanodevices

- -比125千伏更宽的工艺裕度使制造先进的纳米器件更容易

- Single cassette auto-loader as default, supports up to 6 slot multi-cassette auto-loader (option)

-默认单盒自动加载,最多支持6槽多盒自动加载(可选)

 

 

High Throughput and Uniformity

高通量和均匀性

 

- Superior fine line writing:

-卓越的细线条书写:

 

3 nm line width at 50 nm pitch using commercially available resist

3nm线宽,50 nm间距,使用商用抗蚀剂

 

 

User-friendly Interface

友好的用户界面

 

[CAD and SEM interfaces on Windows]

CAD和SEM界面在Windows上

 

- Easy pattern design function

- -简单的图案设计功能

 

- Easy control of beam condition

- -易于控制电子束的条件

 

 

Specification规格

 

 

 

 

 

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