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等离子清洗机 / 去胶机 > 德PVA TePla等离子去胶机
 
IoN Wave 10E 德国 PVA TePla 等离子去胶机
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IoN Wave 10E 德国 PVA TePla 等离子去胶机, 使用最新的、性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。

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产品详情

德国 PVA TePla 等离子去胶机IoN Wave 10E等离子去胶机

IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的最新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进,特别适用于工厂、科研院所等领域。

IoN Wave 10E使用最新的、性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

IoN Wave 10E占地面积很小,安装和维护简单。依靠微波等离子技术,该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时,最大程度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中。

 

先进的功能性:

 

。台式设计,占地面积小

。石英腔室最大可容纳8寸的晶圆,最多同时装载25片6寸晶圆

。使用Windows操作系统的工业计算机控制

。符合Semi E95-1101要求的图形用户界面(GUI)

。软件提供了不同的用户访问权限:操作员、工艺编写、维护

。通过以太网进行远程工艺监测

。机载诊断功能和报警记录

。工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

。液晶触摸屏(LCD)操作面板

。基于在线网络的模拟、培训和支持程序

。安装简单快捷

 

 

典型应用

。 去除光刻胶

。 晶圆打胶

。湿法刻蚀前的晶圆清洁

。去除SU-8

。 刻蚀钝化层

。失效分析中的器件开封

。 清洁和表面活化

。化学微量分析中的低温材料灰化

。 过滤器和滤膜的清洁 

 

 

规格参数

工作腔室

材质 : 石英

尺寸  :248mm直径 x 397 mm长

腔门处直径 : 241mm

容积 :19.2 升

工艺气体控制 :最多至6路气体,MFC控制

基础压力 :0.07 mbar (50 mTorr)

工艺压力 : 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空时间 :大约1分钟

 

 

微波发生器

频率: 2.45 GHz

输出功率 :最大1200W

 

 

供给需求

电源 :220V,50 Hz,单相

工艺气体 :输入压力1-2 Bar

压缩空气  : 4-6 Bar,流速最高 56 升/分钟   (间歇式)

吹扫气体  : 1.3-2.7 Bar,流速最高 28 升/分钟 (间歇式)

尺寸 宽/高/深 : 775 x 749 x 781 mm

重量                                           135 千克

    

可选配置

。 推拉门

。 石英舟支撑杆

。温控板

。 1%精度的真空规

。 压力控制器

。指示灯柱

。 条形码阅读器

。 工艺气体切换器

。 光谱终点检测器

。 法拉第桶(次级等离子体)

。陶瓷腔室,耐化学腐蚀密封圈

。 打印机

。 油泵或干泵

 

 

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