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等离子清洗机 / 去胶机 > 德PVA TePla等离子去胶机
 
德国 PVA TePla 等离子去胶机 IoN 100WB-40Q
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德国 PVA TePla 等离子去胶机 IoN 100WB-40Q 配备了一个圆筒石英腔,特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。

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产品详情

德国 PVA TePla 等离子去胶机
型号:IoN 100WB-40
等离子去胶机

     

 

IoN 100WB-40是我们最新推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备。它来源于IoN 100-40Q,IoN 100WB-40Q延续了同样的高品质保障,包括可选压力控制器、光谱终点检测器等丰富配置选择。

IoN 100WB-40配备了一个圆筒石英腔,特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。

IoN 100 WB旨在满足客户的生产需求,着重于表面处理的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。这使得该设备可满足半导体、LED、MEMS等领域严格的程序控制要求。IoN 100 WB结构紧凑,集成度高,采用射频(RF)频率激发等离子体。

 

先进的功能特性:
●  低微粒石英腔体

●  触摸屏操作,图形用户界面(GUI)

●  使用Windows系统的工业计算机控制

●  工艺员、操作元、维护员访问权限控制

●  自诊断功能和警报记录功能,联网在线诊断功能

●  以太网远程控制功能

●  工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

●  可隔墙安装

●  可选配光谱终点检测功能

 

规格参数 


工作腔室材料  :石英
腔门材质  :铝(标配)
腔体尺寸 :直径304 mm,深508mm

最大可处理晶圆尺寸 :8”

最大处理量:50片6”

装料方式  :手动
   


工艺气体 


质量流量控制计: 最多至6路气体
工艺压力 :200-2000 mTorr(取决于真空泵和气体流量)
抽真空时间  :大约1分钟 (取决于真空泵)

射频电源  : 风冷13.56MHz,600 瓦(标准配置)
供给需求电源:220V 单相, 50Hz
工艺气体 : 输入压力 1-2 bar 
吹扫气体  :输入压力 1-2 bar 
压缩空气 :输入压力 4-6 bar

 

机体

●  独立的机体带有所有电源和气体接口
●  带有旋转垫脚的可转动机身

 

设备尺寸


标准尺寸 : 1067 x 737 x 1524 mm(宽/高/深,不含泵)
重量  : 约204千克(不含泵)

 


可选项

● 压力控制器
● 1%精度的真空规

● 石英腔门
● 指示灯柱
● 条形码阅读器
● 工艺气体切换器
● 光谱终点检测器

● 耐腐蚀性气体的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射频发生器
● 真空泵(油泵或干泵)

 

 

 

 

 

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