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光刻机/微纳3D打印机 > 英Durham无掩膜光刻机
 
Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统
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Durham Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统,是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

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产品详情

Durham Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统


小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

    Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。

 

 

   

 

 

为了更好满足客户需求,同时节省客户采购成本,第三代Microwriter分为三个型号,基本型,增强型,旗舰型:
 

 

 

产品特点
 

Focus Lock自动对焦功能 

Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,

以保证曝光分辨率。

 

光学轮廓仪 

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。

Z向最高精度100 nm,方便快捷。

 

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。

标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

 

别直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,

直到设计图形按要求与有结构重合,保证直写准确。

 

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、

基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

 

Clewin 掩模图形设计软件 

•可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
•可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
•书写范围只由基片尺寸决定


 

 

 

直写分辨率1μm

 

直写分辨率0.6μm

 

微电极制备

 

 

微结构制备

 

微流通道制备

 

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