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光刻机/微纳3D打印机
 
PhableR 100高分辨紫外光刻系统
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德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统,科研/生产兼用 , 是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。

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产品详情

德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统 

科研/生产兼用 

 

简介: 

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

 

特点: 

· 高效的大面积亚微米-纳米图形化设备

· 操作简单、工作稳定,兼容科研及批量生产

· 纳米周期性图案解决方案

 

优势:

· 大面积图形化设备:适用4、6、8寸衬底

· 高曝光效率:非步进式曝光,无拼接,单次全场曝光实现整片图形化

· 高精度:光学衍射自成像原理,突破传统曝光精度极限

· 非接触式曝光

· 设备没有景深限制,曝光过程无需对焦

· 双工作模式(UV375机型):高分辨模式(周期性纳米-微米结构),一般紫外光刻模式(非周期结构)

· 设备采用通用的商业光刻胶,根据客户的图形,提供工艺技术支持。

 

技术指标: 

光源      UV375nm        DUV266nm       DUV193nm

分辨率     125nm         75nm          62nm

周期范围  250-3000nm       150-2500nm     125-2000nm

操作方式  手动装片-自动曝光   参数设置      触摸屏

基片尺寸  最大4、6、8英寸(尺寸向下兼容)

       PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具 

 

应用: 

· 图形化蓝宝石衬底(PSS)

· DFB布拉格光栅

· 减反层图形

· 显示滤光片Color Filter

· 线栅偏振Wire Grid Polarizer(WGP)

· 光子晶体

· 磁性纳米结构

· 太阳能光伏

· 生物传感器

· AR、VR技术

 

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