德国Raith ELPHY 最简单且最具经济性的专业纳米光刻和纳米加工途径

Raith 提供 ELPHY®产品系列，这是一套纳米光刻升级套件，能够使扫描电子显微镜 (SEMs)、聚焦离子束显微镜 (FIBs)、氦离子显微镜 (HIMs) 或组合系统 (FIB‑SEMs) 实现专业的纳米光刻应用。

这一系列解决方案从 ELPHY Quantum 开始，它是市场上最广泛使用的 Raith SEM/FIB 附件。整个工艺范围（CAD 布局和处理、曝光参数控制、每台显微镜的远程控制等）都集成在一个用户界面——RaithNanoSuite 中。专门开发的硬件在基于 Windows 的 PC 上提供。

ELPHY Plus 是为更苛刻的应用或具有更高电流密度的场发射 SEM 开发的，并与激光干涉仪控制的样品台连接。精心设计和快速的模式发生器硬件提供了所需的性能。

Raith 通过 ELPHY MultiBeam 在纳米光刻解决方案（附件）市场上设定了新的标准。ELPHY MultiBeam 结合了三维 FIB 和其他3D 纳米加工技术的最新技术，以及最佳的 EBL 性能，并帮助充分利用任何 FIB‑SEM 或 FIB 系统的纳米加工潜力。