德国Raith EBPG PLUS电子束光刻机

精密、通量与自动化方面具有额外优势的光刻技术。

新的EBPG系列系统是多年系统发展的最新进展。EBPG Plus系统在工业化合物半导体制造中已得到广泛应用，并且是世界顶尖大学和纳米技术研究卓越中心的系统首选。

通过协调吞吐量、稳定性、保真度和精度，EBPG Plus确保所有性能参数之间完美交互，以提供最佳的纳米光刻结果。

高效的数据处理以及对曝光序列适应设计几何特性的多种选项，使得纳米结构具有最高的图案保真度。

硬件和软件设计旨在支持最具挑战性的应用，同时支持在真正的多用户环境下稳定且便捷的系统操作。