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金刚石作为半导体材料的应用
一、金刚石的特性及应用
作为一种优秀的材料,金刚石具有极高的硬度、热稳定性、光学透明性和电学特性,同时具备优异的热传导性和机械强度,这些特性为其在半导体行业中的应用提供了广泛的可能性。金刚石半导体的性质优异,具有高电子迁移率、高崩溃场、高饱和电子速度、高电子击穿场强和极低的自由载流子浓度等特性,被认为是第三代半导体材料的候选材料之一。
目前,金刚石作为半导体材料主要应用于以下方面:
1. 光电器件领域
金刚石半导体具有优异的光学和电学特性,可以用于制造高功率和高频率的光电器件,如高功率激光器、高速光通讯模块、太赫兹探测器等。
2. 电子器件领域
金刚石半导体在电子器件领域的应用主要是基于其高电子迁移率和高电子饱和漂移速度,可以制造高性能的功率器件、薄膜晶体管、高速整流器等。
3. 传感器领域
金刚石半导体具有优异的热传导性和机械强度,可以制造高灵敏度和高可靠性的传感器,如高温、高压力、高速度传感器等。
二、金刚石作为半导体材料的前景
金刚石半导体具有优异的特性,且可以针对不同应用进行优化设计,因此在未来的半导体领域中具有广阔的应用前景。特别是在高功率电子器件、高频率光电器件和高性能传感器领域,金刚石半导体的应用前景更是得到了众多专家学者和企业的关注和投入。
三、结论
作为具有极佳性能和广泛应用前景的半导体材料,金刚石半导体的研究和应用已经成为了当前半导体领域的热点。随着人们对其特性和应用的深入研究,金刚石半导体的应用前景将更加广阔。
金刚石在Ir/YSZ/Si上的异质外延
Augsburg Diamond Technology GmbH利用化学气相沉积技术在外源衬底(异质外延)上合成单晶金刚石。同外延的普遍概念是需要适当尺寸的单晶金刚石作为种子,与此相反,我们的新方法采用多层体系Ir/YSZ/Si作为可扩展的衬底。 这一创新有助于首次在直径达100毫米的圆盘上合成单晶金刚石。
德国IPLAS 微波等离子沉积系统
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