产品简介

公司推出的探针电子束光刻机P-SPL21,利用探针在近光刻胶表面发射低能电子的原理实现光刻效果。该系统的主要特点在于：（1）几乎无邻近效应，能实现3-5nm线宽的超精细光刻结构；（2）用于发射电子的探针同时具有原子力显微镜功能，能够实现亚纳米级精准定位并原位测量曝光图型；（3）超高写场拼接精度（≤2nm），且能够抑制电子束长时间产生的空间漂移（≤5nm）。百及纳米科技的探针电子束光刻系统能够实现光刻与原子力显微镜表征的双重功能，是一款理想的用于微纳制造和表征尺寸小于5nm线宽结构的一体化系统。

尤其是针对二维材料，探针的电子束场发射可以直接辐照在二维材料（如MoS₂，石墨烯等）表面形成感光反应，去除曝光区的二维材料，直接显影并呈现出预设的超精细结构，达到无需使用电子束光刻胶而直接转移图形的效果。

技术特点

•   探针光刻与原子力显微镜一体系统

•   场发射低能电子束

•   大气环境下可实现正负光刻            

•   几乎消除电子束临近效应

•   最小线宽≤5nm，最小结构间距 ≤2nm

•   套刻精度≤2nm，拼接精度≤2nm

•   闭环控制电子束空间漂移（≤5nm）

•   Mix & Match 混合光刻模式

•   原子力显微镜原位扫描光刻图案

功能指标