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行业资讯
40K / 13.56M / 2.45G
2019-07-23 16:26:52
频率40 kHz
优点:
适用于绝大多数不太昂贵的解决方案
能够使用机械手
无条件结合能够在三种频率下达到最大均匀性
能够使用金属滚筒
可以进行活性离子刻蚀(高速刻蚀速率)
阻抗匹配不需要易受干扰的金属元器件
有效系数约为80%
能够装置十层或以上的电极/托盘架,以满足大产量
非常适合半导体后期处理
等离子聚合过程中较低的喷涂速率
电源易于修理
 
频率13.56 MHz
优点:
可以进行活性离子刻蚀
均匀性比2.45GHz要好
在同等功率下刻蚀速率比40kHz要快
能够使用金属滚筒
电极/托盘架可能够堆放,电极的对称性非常重要
非常适合半导体前后期处理
等离子聚合过程中喷涂速率高
 
频率2.45GHz
优点:
费用低廉
相对坚固耐用
在同等功率下刻蚀速率高
有效系数约为60%
可以进行电子回旋共振(高速刻蚀速率)
非常适合半导体前后期处理
等离子聚合过程中喷涂速率高
电源易于修理
 

 

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