Syskey 积沉多腔体镀膜系系统 PVD Cluster

配置和优势：

• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸
• 基板支架加热或冷却
• 优异的薄膜均匀性小于 ±3%
• 溅射/电子束/热/离子蚀刻/氧化/退气
• 用选定的目标材料沉积多层薄膜
• Torr 可选择用于不同的设备
- 可与手套箱集成

设备可以在真空环境下制造，提供目标设备的最佳性能。各种PVD技术可以按一定的工艺流程集成在一起。集群工具可以是被定义为设备制造的专用工具。