Syskey 超高真空电子束镀膜 UHV  E-beam,  特高压环境的特点是压力低于 Torr，这一点非常重要到科学研究，因为实验通常需要将表面保持在无污染状态。我们在制造特高压电子束系统方面经验丰富，用于超导体、自旋电子学等。

配置和优势：

• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸
• 基板支架水、油或 LN2 冷却和倾斜
• 优异的薄膜均匀性小于 ±3%
• 4/6/8 个口袋电子束光源（每个口袋最多 40 cc）
• 6 kW 电源可支持大部分材料蒸发
• 用选定的目标材料沉积多层薄膜
• Torr 是可选的铝基约瑟夫森结
• 可与其他沉积系统集成