美NANO-MASTER  RTP快速退火炉

NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统

NRT-4000 独立式全自动RTP系统

NRT-4000 独立式大批量RTP系统

NANO-MASTER的NRT-4000型独立式RTP快速褪火炉，可支持硅片、GaN、GaAs等晶圆的快速煺火，具有精确的温度/时间控制能力。该RTP系统可支持单片自动Load Lock，或者带25片Cassette的单片工艺，可兼容处理4”和6”晶圆片。也可以有一次处理6-7片6”晶圆的批处理版本。占地面积仅为26”x44”,不锈钢立柜。
 
用户可选择温度的升降时间，温度和脉冲数，并且这些工艺参数实时显示在触摸监控屏幕中。全自动工艺控制和完整的安全联锁功能。系统支持不限数量的工艺菜单，每套工艺菜单可根据客户需要支持1到100个工艺工序（步骤）。
 
该RTP系统可选择不同的最高温度（最高可可加热至1100℃或者1400℃），温度脉冲可高达200C/s，SiC涂覆的石墨烯样品台，带石英支架，三顶针升降样品台(Auto L/UL)。提供高均匀性的温度控制，整个晶圆全局的温度均匀性优于+/-1%，控温精度优于+/-2℃。

特点：

** 无气相颗粒，兼容百级超净间
** 12”x12”x8”不锈钢腔，气动升降顶盖
** 最高温度可达1100℃
** 最高脉冲温度可达200℃/Sec
** 碳化硅涂覆的石墨烯基座
** 36KW的SCR控制的IGBT开关固态电源
** ISP-500干泵，极限真空可达50mTorr
** 8个红外灯，金反射镜
** 不均匀性±1%，温控精度±2℃
** 200sccm质量流量计
** 25片Cassette自动Load Lock
** LabView软件，触摸屏监控屏幕
** 四级密码授权访问保护
** EMO和完全的安全联锁功能
** 占地面积仅26”×44”，不锈钢柜体

选配：

** 大腔体配置，支持更大尺寸或批处理
** 单晶圆工艺的Auto Load Lock
** 单晶圆工艺25片Cassette的自动上下片
** 最高加热温度升级到1400℃
** 双光学高温计，控制400-1400℃，控制150-1100℃
** 涡轮分子泵，5×10-7Torr的极限真空。
** 额外MFC用于如O2、H2等气体，实现不同工艺应用

应用：

** 扩散
** 接触式退火
** 复合半导体退火
** 氧化、碳化、晶化，以及致密化