美Nano-master等离子清洗/灰化系统

NPC-4000 独立式等离子清洗去胶系统

NPC-3500 紧凑型独立式等离子清洗去胶系统

NPC-3000 台式等离子清洗去胶系统

NPC-1000 台式简化型等离子清洗去胶系统

NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。

特点：

** 不锈钢、铝以及钟罩式腔体
** 超净设计，兼容百级超净间使用
** 淋浴头RF离子源
** 旋转样品台
** 260L/Sec抽速的涡轮分子泵
** 极限真空5x10-7Torr
** 偏压样品台可加热到300°C(PID精确控温)或冷却样品台
** 自动或手动RF调谐器
** 最多4路带电抛光不锈钢气体管路的MFC
** 全自动计算机控制，菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 计算机控制的气动阀
** 基于计算机的全自动工艺控制，菜单驱动
** LabView友好用户界面
** EMO及安全联锁

选配：

** 前级泵升级为干泵
** 自动上下片
** 增加MFC升级为更高型号
** 升级为ICP源或微波源

应用：

** 失效分析
** 无残留去除有机和无机材料
** 光刻胶剥离或灰化
** 去残渣及深腐蚀
** 清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜引线框架
** 提高粘附性，消除键合问题
** 塑料品表面改性：O2处理提高涂覆性能
** 生成亲水或疏水表面