美Nano-master热蒸镀系统：

NTE-4000 独立式电子束蒸镀

NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀

NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统

NTE-1000 简便型热蒸镀

热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。

NTE-4000是NTE-3000热蒸镀系统的独立式配置，提供更大的空间用于更多的选择，如不同的腔体尺寸、基片清洗、冷却、共蒸镀和溅射等功能。NTE-4000型立柜式系统（可支持更多的蒸发源，共蒸发能力，溅射能力，以及共溅射能力）。

NTE-3500紧凑型独立式热蒸镀系统，触摸屏监控屏幕集成于柜体的手臂上，整个主机的占地面积仅26"x26"。可支持4个蒸发源，也可扩展支持共蒸镀和溅射能力

NTE-3000是一款计算机控制的双蒸源台式热蒸镀系统，广泛应用于有机物和金属的蒸镀。该系统使用2KVA的SCR电路来实现精确的温度控制，这对有机材料蒸发非常关键。系统的设计特别关注在小的占地面积的基础上，实现干净、均匀和可重复的工艺。这是一套具有低成本高品质特性的系统，可满足科研和小规模生产需求。

NTE-1000型单蒸发源的台式系统，

特点：

** 12英寸钟罩式/10”圆柱不锈钢/14”立方型不锈钢腔体
** 最大7英寸×7英寸方形和直径200毫米圆形晶圆
** 双蒸发源
** 水冷样品台和水冷保护
** 固态开关用于序列蒸镀用
** SCR用于精确控制电流
** 独立蒸发源及基片遮板
** 防交叉污染挡板
** 晶振膜厚监控系统
** 可以以目标膜厚作为工艺的终点条件
** 旋转锁紧件方便装卸片
** 基片旋转
** 闭环蒸镀控制
** 基于计算机全自动控制，菜单驱动
** LabView友好用户界面
** 支持不限数量的程序每程序支持1-100个步骤
** 全自动工艺控制，高重复性
** EMO保护及安全联锁

选配：

** 基板可加热(最高到800°C)或水冷
** 旋转GLAD斜角入射沉积
** 行星运动样品台
** 增加热蒸发电源用于共蒸发
** 增加蒸发源(最大到6个蒸发源)
** 更大尺寸的基片应用
** RF/DC偏压
** 离子源用于基片清洗
** 靶枪用于溅射
** 增加MFC用于支持反应溅射/蒸镀
** 自动上下片
** 包含冷泵在内的各种泵选项

应用：

** IC互连中的金属镀膜
** CIGS太阳能电池应用中的金属接触层
** 有机场效应晶体管
** 钙钛矿太阳能电池应用
** OLED
** 对容易氧化的比如铟等金属材料的蒸镀
** 其它涉及到熔点在2000C以内的金属的蒸发镀膜
** 其它涉及到熔点在600C以内的有机物的蒸发镀膜