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半导体芯片/电子材料 > 光刻胶
 
AZ 光刻胶
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AZ 光刻胶，G线/I线/G线I线通用光刻胶系列

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产品详情

AZ 系列光刻胶：

 

AZ 1500 系 列 光 刻 胶，为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶

 
特 征
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于全球半导体行业
 
参考工艺条件
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
 
 
产品型号(PRODUCT RANGE)
 
 
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