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镀膜沉积机 > 日立Hitachi 离子溅射仪
 
日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000
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日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000,采用磁控型电极,最大限度地减轻对样品的损坏。

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产品详情

日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000

 

特点:

。采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
。可处理较厚或较大的样品(选配件)
。记忆功能可存储常用加工条件

 

规格:

项目 说明
放电: 类型: 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成: 反向平行盘(嵌入磁铁)
电压: 最大 0.4 kV DC(直流可变)
电流: 最大 40 mA DC
喷镀速率 *1(最大):
[条件]:
压力:7 Pa
放电电流:40 mA
标靶与样品表面之间的距离:20 mm
Pt 靶(选配件): 15 nm/min
Pt-Pd 靶(选配件): 20 nm/min
Au 靶(选配件): 35 nm/min
Au-Pd 靶(选配件): 25 nm/min
样品尺寸: 最大直径: φ60 mm
最大高度: 20 mm
机械泵: 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2: Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
电源要求: 单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)
尺寸: 宽度: 450 mm
长度: 391 mm
高度: 390 mm
重量: 主机:约 25 kg
机械泵:约 28 kg
[RETURN]
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