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镀膜沉积机 > 英Oxford Vacuum电子束蒸发镀膜机
 
Vapour Station 4 电子束蒸发镀膜机
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4 微纳器件样品制备系统,该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究;

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产品详情

英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4

微纳器件样品制备系统

 

产品简介

该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究;

    

 

真空室采用优质不锈钢,氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺。基片台尺 寸:3 英寸,配备一套 TELEMARK 的单袋电子束靶枪一套;镀膜室用一台 高精度石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测,配备有原装石英晶振探头; 镀膜生长室放置2个热阻蒸发舟,是一款真空高性价比的电子束蒸发镀膜机。

 

   

 

技术参数

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

 

真空腔体:

真空腔体要求:最大样品尺寸为 3 英寸,样品台直径为 75mm; 薄膜均匀性≤±1%;

极限压力:真空腔室薄膜最高真空度<3×10-7 mbar;

真空计:真空测量系统,宽范围的真空规,最高真空度小于 3×10-7mbar;

样品夹:真空腔体里配有样品夹,能够固定住样品;

挡板:真空腔体里配有沉积挡板,工作时能区分开不同样品;

蒸发样品池:配置单袋容量 1.5cc 的电子束靶枪,电源功率为3KW ;

蒸发舟:2个热蒸发钨舟,用于沉积一些热蒸发材料;

 

薄膜监测仪:

.电脑控制的薄膜监测仪,能实时监测薄膜的厚度情况;

.测量频率范围至少包含6.0 to 5.0 MHz这个范围;

.频率分辨率应≤±0.03 Hz (at 6 MHz); 测量间隔应≤0.10 s;厚度显示分辨率≤1 Å;

 

真空系统:

 .真空系统组成:应至少包含一台干式涡旋泵和一台涡轮分子 泵,美国安捷伦干式涡旋泵作为前级泵;

.爱德华涡轮分子泵:

 -N2抽速:240 L/s;

 -极限真空(ISO):<6×10-8mbar;

 -强制空气冷却,35°C,环境温度:30sccm;

 -标称旋转速度:60000rpm;

 -待机旋转速度范围:33000-60000rpm;

 -可编程功率限制范围:50-200W

 -强制空气冷却的环境空气温度:5-35°C;

 -噪音级别:<45dB(A)

冷却方式包含有风冷和水冷两种方式可供提前选择;

 

   

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