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光刻机/微纳加工 > OAI美 紫外光刻机
 
Model 200 美国 OAI 光刻机
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美国 OAI 光刻机 Model  200 型桌面掩模对准器系统,完全手工操作,输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线,Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm

 

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美国 OAI 光刻机 Model  200 型桌面掩模对准器系统

 

完全手工操作

。输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线,Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm

。衬底从块大小8平方

。互换抛掷和面具

。紫外灯功率范围从200到2000 w

。选择紫外LED光源(365 nm和405 nm)

。空气轴承真空吸盘

。接近(15-20um): & lt; 3.0 - 5.0, 软接触:2.0um,硬触点:1um和真空接点:≤0.5um

。对齐模块X, Y,和Z轴和θ

。双通道光学反馈

。只提供正面接触w / IR选项

。可用在桌面选项只适用于研发及独立工作

。.占用空间小

。适用于生物学、微机电系统、半导体和 Microfludics CLiPP应用程序

 

 

Model 200 Table Top Mask Aligner System

Complete Manual Operation
。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm),I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm     orLED: 365nm, 395nm and 405nm
。Substrate Sizes from Pieces to 8” sq
。 Interchangeable chucks and mask holders
。 UV Lamp Power range from 200 to 2,000W
。Option for UV LED (365nm and 405nm) Light Source
。 Air bearing vacuum chuck
。 Proximity (15-20um): <3.0 – 5.0um, Soft Contact:<2.0um, Hard contact: 1um and vacuum contact : ≤ 0.5um
。Alignment module X, Y, and Z axis and theta
。 Dual-channel optical feedback
。 Provides Front side exposure only w/ IR Option
。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work
。 Small Footprint
。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP application 
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