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紫外UV清洗UV固化UV灯 > 蓝星宇/日本SEN UV清洗机UV固化机
 
紫外UV清洗机LXYSUV110X26
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紫外UV清洗机LXYSUV110X26,UV清洗灯同时发出185NM,254NM光波,UV光照度(254NM):15-25MW/CM2, 可以清洗PCB/FPC/塑胶/金属/玻璃/陶瓷硅/电子器件等表面有机污染物及轻微改质,增强表面附着力,达因值45以上,适合生产过程流水线批量作业。

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产品详情

紫外UV清洗机LXYSUV110X26



        

 

     定制电话:廖生 13538131258

 

主要特性用途:

UV清洗灯同时发出185NM,254NM光波,UV光照度(254NM):15-25MW/CM2, 可以清洗PCB/FPC/塑胶/金属/玻璃/陶瓷硅/电子器件等表面有机污染物及轻微改质,增强表面附着力,达因值45以上,适合生产过程流水线批量作业。典型客户案例:住友电工(深圳),松下半导体(苏州),张家港康得新材料,杭州纳晶科技,HITACHI, SANYO, TOSHIBA,JDC, 技研新阳,中科院研究所,浙江大学,南京工业大学,北京理工大学,上海大众汽车电子,上海延锋伟世通汽车电子, 南玻,京东方等。



1.0 设备构造概述:

型号

UV清洗机LXY-SUV110X26

规格

L3500mm*W950mm*H1840mm

序号

名称

规          格

1

机架

外形部分:外形材质采用T1.2 冷板折弯,箱体静电喷塑(不同一般喷漆,高档、易清洗、耐腐蚀)电脑白,箱底配4个3〞万向轮。进料、出料部分各长500mm,光源及遮光部分长2500mm,进料口高度50mm,前后配挡板可调高低。

2

UV区

采用26 套日本SEN进口110W UV 清先光源,灯管有效发光长为560 mm,波长254nm及185nm, 灯箱长度约为1500MM,灯管自左至右并列分布在炉腔,加装UV 镜面反光灯罩,有效提高紫外线的使用率。UV 灯可单独控制,灯管高度可上下调节。灯管上方装有抽风装置,有效散发UV灯管照射带来的热量,以及把UV灯产生的臭氧排到室外;UV光照部分铺304#镜面板。

3

传动部分

采用180W 电子调速马达速度数字显示器,速度0.5~3M/min 可调,采用动力滚筒配黑色耐热特氟龙网带,带宽600mm。

4

循环风部分

设备顶部加装高效净风系统FFU,采用强制冷风,UV 区设有维修门,方便打开清理及维护。底部配大风量台湾离心风机,风量可调,有效降低产品及UV 炉内的温度,提高灯管寿命。

5

电器部分

电源采用三相五线制,总功率约4KW,380V,每盏灯可独立控制、每盏灯配有计时器,总电源开关,设有紧急停止,主要电器元件为正泰品牌。

设备控制系统采用信捷PLC+人机界面,可记录每支灯管的使用时长。


   
      


 

紫外光UV清洗原理

紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。

其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,彻底清除物体表面的污染物。

 

应 用

紫外线UV光清洗技术的应用范围:

1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;

2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂

3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成;

4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗

5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以极大的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力;

6。印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量。

7。大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。  

8。在半导体生产中,硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗,可以提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生

9。在光盘的生产中,沉积各种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量。

10。磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果好。

11。石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。

12。在IC卡表面插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量。

13。彩色滤光片生产中,光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。

14。敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层,产品质量显著提高

15。光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好。

16。树脂透镜光照后,能加强与防反射板的粘贴性。

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