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半导体微纳检测仪器 > 美Nanovea三维表面形貌仪
 
HS1000型三维表面形貌仪
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美国NANOVEA HS1000型三维表面形貌仪,是一款高速的三维形貌仪,最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。

 
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产品详情

 

美国NANOVEA HS1000型三维表面形貌仪

 

  

 

产品简介

 HS1000型三维表面形貌仪是一款高速的三维形貌仪,最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
 

产品特性


采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
测量具有非破坏性,测量速度快,精确度高
测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…);
尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
不受样品反射率的影响
不受环境光的影响
测量简单,样品无需特殊处理

Z方向,测量范围大:为27mm
 

主要技术参数


扫描范围:400mm×600mm(最大可选600mm*600mm)
扫描步长:5nm
扫描速度:1m/s
Z方向测量范围:27mm
方向测量分辨率:2nm

 

产品应用


MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料,光学元件、陶瓷和先进材料的研发

主要用于

--生产现场三维形貌测试的理想选择 

--高速三维表面形貌检测

美国NANOVEA HS1000型三维表面形貌仪

 

产品简介

 HS1000型三维表面形貌仪是一款高速的三维形貌仪,最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
 

产品特性


采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
测量具有非破坏性,测量速度快,精确度高
测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…);
尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
不受样品反射率的影响
不受环境光的影响
测量简单,样品无需特殊处理

Z方向,测量范围大:为27mm
 

主要技术参数


扫描范围:400mm×600mm(最大可选600mm*600mm)
扫描步长:5nm
扫描速度:1m/s
Z方向测量范围:27mm
方向测量分辨率:2nm
产品应用
MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料,光学元件、陶瓷和先进材料的研发

 

主要用于

--生产现场三维形貌测试的理想选择 

--高速三维表面形貌检测

 

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