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半导体辅助工艺/光刻胶 > 晶圆清洗机
 
SWC-4000美Nano-master兆声晶圆清洗机
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美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000,提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

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产品详情

美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000

 

 

 

产品特点:

SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

 

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:

。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
。Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
。CMP处理后的晶圆片清洗
。晶圆框架上的切粒芯片清洗
。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
。带保护膜的分划版清洗
。掩模版空白部位或接触部位清洗
。X射线及极紫外掩模版清洗
。光学镜头清洗
。ITO涂覆的显示面板清洗
。兆声辅助的剥离工艺

 

特点:

。支持12"直径的圆片或9"x9"方片
。独立系统
。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干
。微处理机自动控制
。化学试剂滴胶单元
。溶剂与酸分离排废
。热氮
。30"D x 26"W 的占地面积

 

选配项:

。掩模板或晶圆片夹具
。臭氧清洗
。PVA软毛刷清洗
。高压DI清洗
。氮气离子发生器

 

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