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离子刻蚀与沉积系统 > 英Oxford离子刻蚀/沉积/去胶机
 
Ionfab 300 IBE 牛津离子束刻蚀机
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牛津离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE,离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

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产品详情

牛津离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE

 

 

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

。多模式功能
。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作
。双束流配置
。更低的表面薄膜粗糙度
。更佳的批次均匀性和工艺重复性
。准确终点监测 —— SIMS,发射光

 

产品特点:

· 质量薄膜高 ——超低污染

· 产量高,紧凑的系统体积设计 ——运行成本低

· 已获得专利的高速衬底架(高达1000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为准确的实时光学薄膜控制

· 配置灵活 ——适于先进的研究应用

· 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式

 

应用:

· 磁阻式随机存取存储器(MRAM)

· 介电薄膜

· III-V族光电子材料刻蚀

· 自旋电子学

· 金属电极和轨道

· 超导体

· 激光端面镀膜

· 高反射(HR)膜

· 防反射(AR)膜

· 环形激光陀螺反射镜

· X射线光学系统

· 红外(IR)传感器

· II-VI族材料

· 通信滤波器

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