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离子刻蚀与沉积系统 > 英Oxford离子刻蚀/沉积/去胶机
 
Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机
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Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机(灰化),从蚀刻晶圆片上移除光刻胶。

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Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机(灰化)

 

 

应用:从蚀刻晶圆片上移除光刻胶

 

流程配置: RIE/ICP

 

工作原理

。使用等离子体源,生成单原子反应种。

。氧是最常见的反应物质。反应性物质与光阻结合形成灰,

。用真空泵将其除去。

。ICP结构避免了高能离子轰击和电容耦合,

。提供低衬底损伤。

 

可用气体:  O2, N2O

 

主要性能:

。开放式设计,可快速加载和卸载晶圆。

。基片放置在石英上,以避免溅射/再沉积电极材料

。通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室

。电感耦合等离子体(ICP)和电极的独立射频发生器提供对离子能量和离子密度的独立控制

。高电导泵浦端口提供高的气体吞吐量,以最快的腐蚀速率

。使用等离子体源,生成单原子反应种。氧是最常见的反应物质。

 

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