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德 Iplas 微波等离子化学气相沉积
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德 Iplas 微波等离子化学气相沉积技术,通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

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产品详情

德 Iplas 微波等离子化学气相沉积



 

详细介绍
德国 IPLAS 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

MPCVD是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司专利的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,最大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

 

化学机理概要:

碳氢化合物:提供沉积材料

氢气:生成sp3键

氧:对石墨相/sp2键侵蚀

惰性气体:缓冲气体,或生成纳米晶体。

 

适用合成材料:

大尺寸宝石级单晶钻石

高取向度金刚石晶体

纳米结晶金刚石

碳纳米管/类金刚石碳(DLC)

 

多种等离子发生器选择:
 
频率:2.45GHz, 915MHz:
 
功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW
 
等离子团直径:70mm, 145mm, 250mm, 400mm
 
工作其他范围:0-1000mBar 
 
                    

 

其他应用:


MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要。
 
 

 


 

 

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