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光刻机/微纳3D打印机 > 瑞士NanoFrazor 3D纳米高速直写机
 
NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
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瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的最新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。

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产品详情

瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

源自IBM最新研发成果      
 

    NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的最新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。


    NanoFrazor采用尖端直径为5nm的探针,通过静电力精确控制实现直写3D高精度直写,并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有以下特点:
  

   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
         高速直写 20 mm/s 与EBL媲美 
   ■  
无需显影,实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm
         样品无需标记识别,多结构套刻,对准精度 5nm 
   ■  
无临近效应
         高分辨,高密度纳米结构
   ■  
无电子/离子损伤
         高性能二维材料器件
   ■  
区域热加工和化学反应
         多元化纳米结构改性
   ■  
大样品台
         100mm X 100mm

    

 

 新产品发布:NEW!!  NanoFrazor Scholar --小面积直写
   

   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
         高速直写 10 mm/s 
   ■  
无需显影,实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm
         样品无需标记识别,多结构套刻,对准精度 10 nm 
   ■  
无临近效应
         高分辨,高密度纳米结构
   ■  
无电子/离子损伤
         高性能二维材料器件
   ■  
区域热加工和化学反应
         多元化纳米结构改性
   ■  
小样品台
         30mm X 30mm

 

    
 

 该技术自问世以来已经多次刷新了世界上最小3D立体结构的尺寸,创造了世界上最小的马特洪峰模型,最小立体世界地图,最小刊物封面等世界记录。

  
 

 

独特的直写与反馈流程  
 

PPA(聚苯二醛) 直写胶涂敷在样品表面。

背热式直写探针,微区电阻式加热针尖。与针尖接近的PPA受热瞬间分解,周围部分由于PPA热导率低而不受影响。

热针震动模式直写,直写时探针加热,每次下针幅度受静电力控制,垂直精度 1 nm,从而写出3D图形。

冷针接触模式扫描,回程扫描时探针冷却,由侧壁的热感应器探测样品高度变化(精度0.1nm), 获得样品形貌。反馈数据修正下一行直写。

 

独有的直写针尖设计


     
    普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求,因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域,针尖上方的加热区域可以加热到1000oC。 第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处,其能感知针尖与样品距离的变化,精度高达0.1 nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时,并不是通过针尖 起伏反馈形貌信息,而是通过热导率传感器感应形貌变化,从而实现了比AFM快1000余倍的扫描速度,同避免了针尖的快速磨损消耗。

 

 
 

NanoFrazor技术特点

 

   

 

 

 

 


 

其他功能

● 纳米颗粒有序定位排列

● 纳米局部化学反应诱导

● 表面化学图案、结构生成纳米颗粒有序定位排列 
 

 氧化石墨烯的定位还原

  
   

 

 

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