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光刻机/微纳3D打印机 > 德Zeiss电子束直写仪
 
德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪
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德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(最小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。

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产品详情


德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪
型号:Zeiss Sigma SEM



 

主要功能:
·利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(最小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。


 

技术指标:
·肖特基热场发射电子源
·加速电压:100V~30kV
·放大倍率:12X~1000,000X
·SEM分辨率:1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm(1kV)
·电子束曝光:10nm(20kV)
·场拼接精度:<100nm
·扫描频率:6MHz
·图形格式:GDSII

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