UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机，用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的独特组合，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、SiC、GaAs和InP）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

• 最大加工尺寸为ø240 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
• 200 - 300 nm/min的高灰化率。
• 加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。
• 通过调整平台和石英扩散板之间的间隙，可以提高基板的均匀性。
• 紧凑，使用最小的洁净室空间
• 简单，在大气压下操作--不需要真空系统。
• 柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。
• 内置臭氧催化剂装置，可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

应用

• 塑料包装和引线框架的表面清洁
• 复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗
• 表面改性（润湿性和附着力的改善
• 表面氧化(薄氧化层沉积)
• 光阻剂的灰化、剥离和除尘
• 清除有机污染物
• 紫外线固化