散热片：激光二极管，磁控管等器件

的热控，芯片的热沉

光学窗口：x-ray,  微波，激光,

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医学植入：人工视网膜

微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司专利的 CYRANNUS 等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

1. CYRANNUS技术无需在样品腔内安装内部电极，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期。

2. CYRANNUS技术的腔外多电极设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由CYRANNUS系统合成的金刚石，纯度均在VVS级别以上。

3. 电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高。

4. 微波发生器稳定易控，能在从10mbar到室压的高压强环境下维持等离子体，在气流、气压、气体成分、电压出现波动时，确保等离子体状态的稳定，保证单晶生长的过程不被上述干扰而中断，有利于获得大尺寸单晶金刚石。

5. 可以采用磁约束的方法，约束在等离子团在约定的空间内，微波结和磁路可以兼容。

6. 安全因素高。高压源和等离子体发生器互相隔离，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准。

7. 可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足从实验室小型设备到工业大型装置的不同需要。大可以对300mm直径的衬底沉积金刚石薄膜。

化学机理概要：
碳氢化合物：提供沉积材料
氢气：生成sp³键
氧：对石墨相/sp²键侵蚀
惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。
适用合成材料：
大尺寸宝石级单晶钻石
高取向度金刚石晶体
纳米结晶金刚石
碳纳米管/类金刚石碳（DLC）

多种等离子发生器选择：

频率：915MHz:, 2.45GHz等

功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW，

50KW, 70KW, 100KW等

等离子团直径：70mm, 145mm, 250mm, 400mm

工作其他范围：0-1000mBar

其他应用：

MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al₂O₃，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借30多年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。