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SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机
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ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer 

SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机

300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆

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ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer 

SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机

 

❑ 300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆
❑ 大玻璃板（光学元件）
❑ 掩膜蚀刻
 
 
 
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