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光刻机/微纳3D打印机 > nanoArch微纳3D打印机
 
P130/S130微纳3D打印机
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美国nanoArch微纳3D打印机 P130/S130 ,科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

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产品详情

美国nanoArch 微纳3D打印机 P130/S130

nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
 

科研级3D打印系统

nanoArch P130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
 

 

NanoArch P130/S130系统性能:注:样品高度典型2mm,最高10mm

 

nano Arch P130产品规格:

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:2μm

XY打印精度:2-10μm

打印层厚:5-20μm

打印样品尺寸:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

打印件格式:STL

系统外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量:450kg

电气要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW

 

nano Arch S130产品规格:

 

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:2μm

XY打印精度:2-10μm

打印层厚:5-20μm

打印样品尺寸:模式1:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

                      模式2:38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)

                      模式3:50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)

打印件格式:STL

系统外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量:450kg

电气要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW

 



打印材料:

   。通用型:丙烯酸类光敏树脂,如HDDA,PEGDA等

   。个生化:高强度硬性树脂,纳米颗粒掺杂树脂,生物医用树脂等。



系统特性:

    。高精度:XY打印精度高达2μm;      

    。低层厚:5μm-20μm的打印层厚;

    。微尺度打印能力;                    

    。光学监控系统,自动对焦功能;

    。配置气浮平台,提高打印质量;        

    。优良的光源稳定性;

    。配备完善的样品后处理组件,包括抽真空及紫外后固化。

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